產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
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三源高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀 三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用于金屬和介電膜,薄膜傳感器的制造,光學(xué)元件,納米與微電子,太陽(yáng)能電池.
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三靶磁控濺射鍍膜儀 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：CY-600-3HD三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開(kāi)發(fā)的一款性價(jià)比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多...
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高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀 高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀適用于蒸發(fā)涂覆大多數(shù)金屬和某些有機(jī)材料薄膜
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非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺... 非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀是一款緊湊型2英寸單頭射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，涂有非金屬，主要是氧化物薄膜。非導(dǎo)電薄膜等離...
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多源真空蒸發(fā)鍍膜儀 高真空蒸發(fā)鍍膜儀還適用于對(duì)氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍
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5英寸近源有機(jī)物蒸發(fā)鍍... 近源有機(jī)物蒸發(fā)鍍膜爐是一種雙加熱區(qū)快速熱處理爐，它是研究新一代太陽(yáng)能電池薄膜的主要工具，如CdTe、硫化物和鈣鈦礦太陽(yáng)能...
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桌面型三源蒸發(fā)鍍膜儀 熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過(guò)程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過(guò)程中，材料需要獲得足夠的熱能以克...
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半導(dǎo)體薄膜電子束蒸發(fā)鍍... 電子束蒸發(fā)方式鍍膜設(shè)備，主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其...
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高真空三源熱蒸發(fā)鍍膜儀 三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用領(lǐng)域：金屬和介電膜 ，薄膜傳感器的制造 ，光學(xué)元件 ，納米與微電子 ，太陽(yáng)能電池等
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卷繞式高真空蒸發(fā)鍍膜儀 卷繞式蒸發(fā)鍍膜儀可用于不同種類的材料的薄膜生長(zhǎng)，大多數(shù)金屬和某些有機(jī)材料薄膜，如金屬、半導(dǎo)體、氧化物等
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大功率直流磁控濺射鍍膜... 大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺(tái)式磁控等離子濺射鍍膜機(jī) ，帶有一個(gè)水冷2英寸靶頭，冷水機(jī)和可旋轉(zhuǎn)樣品架。大功率直流...
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四英寸四靶靶磁控濺射鍍... 用于金屬+非金屬 鈦膜、金膜、鉻膜、二氧化硅薄膜生長(zhǎng)多層薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、有機(jī)物等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)...
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3靶緊湊型磁控濺射鍍膜... 3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1"射頻等離子體磁控濺射系統(tǒng)，設(shè)計(jì)用于非金屬薄膜涂層，主要用于多層氧化物薄膜。3靶緊湊...
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桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀 熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過(guò)程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過(guò)程中，材料需要獲得足夠的熱能以克...
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小型高真空雙源熱蒸發(fā)鍍... 小型蒸發(fā)鍍膜儀，可提供*大100A的鍍膜電流，*大蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見(jiàn)金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍
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高真空電子束蒸發(fā)鍍膜儀 電子束蒸發(fā)方式鍍膜設(shè)備，主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其...
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帶手套箱三源蒸發(fā)鍍膜儀 鍍膜設(shè)備以金屬/有機(jī)源蒸發(fā)為主體，適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導(dǎo)體膜等，也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)...
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單靶磁控濺射鍍膜儀 本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電...
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桌面型不銹鋼腔體熱蒸發(fā)... 熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過(guò)程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過(guò)程中，材料需要獲得足夠的熱能以克...
