本設備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。

本套配置采用高真空不銹鋼腔體，前開門式設計，門上配有石英觀察窗，便于實驗的觀察記錄。同時設備配有旋轉加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。頂蓋上裝有一套擋板，可通過轉動擋板切換兩支靶，實現多層鍍膜。

本設備需要配合高真空分子泵組一起使用，用戶可以選擇進口品牌小型分子泵以進一步節(jié)省安裝面積。同時該型號可選配膜厚儀組件，可實時監(jiān)測膜厚數據，為實驗工藝提供可靠參數。

雙靶磁控鍍膜儀參數：

產品名稱	桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀
產品型號	CY-MSZ210-I I -DCDC-SS
樣品臺	外形尺寸	φ60mm
	加熱溫度	≦500℃
	可調轉速	≦20rpm
磁控靶槍	配兩支2英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體	腔體尺寸	φ210mm X260mm
	觀察窗口	全向透明
	腔體材料	304不銹鋼
	開啟方式	上蓋拆卸式
真空系統(tǒng)	前級泵	低噪音雙極旋片泵
	分子泵	低噪音大抽速渦輪分子泵
	真空測量	復合真空計，量程:10-5~105Pa
	抽氣接口	KF16
	抽氣接口	KF40
	排氣接口	KF16
	系統(tǒng)真空	1.0×10-4Pa
	供電電源	AC 220V 50/60Hz
	抽氣速率	分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s
電源配置	電源數量	直流電源兩套
	輸出功率	500W
其他參數	供電電壓	AC220V,50Hz
	整機功率	2kW
	整機尺寸	550mm X 350mm X400mm